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  • PECVD設(shè)備.2.jpg

PECVD 臥式


所屬分類(lèi):

第一代半導(dǎo)體工藝設(shè)備


概要:

? PECVD主要應(yīng)用于氧化硅(SiO?) 和氮化硅(SiN4) 材料的薄膜生長(zhǎng),工作原理是在低壓引入高頻射頻電源,采取電容耦合方式使工藝氣體電離放電,形成等離子體狀態(tài),產(chǎn)生大量的活性基團(tuán),這些活性基團(tuán)在襯底材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并沉積到襯底表面,生長(zhǎng)出氧化硅(SiO?) 或氮化硅(SiN4) 薄膜


關(guān)鍵詞:

PECVD (立式/臥式)



PECVD 臥式


上一個(gè)

氧化/擴(kuò)散設(shè)備

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